CIF中試型等離子清洗機CPC-10系列
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CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設備， 顛覆傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間：2025-09-04 09:46:16
產(chǎn)品特點：
◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。
◆ PLC 工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。
◆ 石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。
◆ 采用質(zhì)量流量計，實現(xiàn)對氣體輸入精準控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。
◆ HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
◆ 60 度傾角操作界面設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。
◆ 頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式，開關蓋方便。
◆ 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。
◆ 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體功能學，操作更方便。
◆ 有效清洗面積大，可清洗最大直徑 8 吋硅片。
◆ 安全保護，艙門打開，自動關閉電源。